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抛光树脂混床 超纯水/去离子水设备 电子半导体/表面涂装超纯水

更新时间:2010-01-01 00:00:00
价格:请来电询价
加工定制:是
规格:MKW-PGP02
工作压力:0.25~0.45(Mpa)
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详细介绍

抛光混床

一、概述

抛光混床是设置于edi系统之后,对水进一步纯化的水处理设备,一般抛光混床可分成一级抛光混床和二级抛光混床,一级抛光混床将edi的产水再净化使水质电阻达16 mω以上,二级抛光混床是一级抛光混床产水进行再抛光,使水质电阻率达18 mω以上。

二、抛光混床结构形式

一级抛光混床是由2台压力容器组成,并列工作。内部设有材料为abs的布水器和集水装置,内部填装阴阳树脂比例为1.5:1,所用树脂为国产的超纯水专用树脂,当运行产水水质小于12mω指标时,更换树脂。二级抛光混床是由2台直径为压力容器组成,串联工作。内部设有材料为abs的布水器和集水装置,内部填装阴阳树脂比例为1.5:1,所用的树脂为美国生产的nm-5dsg(半导体级混床树脂)型号树脂,当达不到用水水质要求指标时,更换树脂。

三、主要技术参数

设计压力: 0.6mpa

运行流速:一级:30 m/h

        二级:36 m/h

设备出力:一级:1-100 m3/h

        二级:1-100 m3/h

产水水质:一级:电导度≤0.053μs/cm电阻≥16mω

        二级:电导度≤0.053μs/cm电阻≥18mω

 

四、原理与特点

原理

该设备是将阴、阳离子交换树脂按一定比例填装于同一交换器内的离子交换装置,一般称为混合离子交换器(简称混床)。均匀混合的树脂层阳树脂与阴树脂紧密地交错排列,每一对阳树脂与阴树脂颗粒类似于一组复床,故可以把混床视做无数组复床的串联运行的离子交换

设备。

混床水质除盐的反应方程式如下:

特点

由于通过混合离子交换后进入水中的氢离子与氢氧离子,立即生成电离度很低的水分子(h2o),很少可能形成阳离子或阴离子交换时的反离子,可以使交换反应进行得十分彻底,活水水质优良。一般用强酸强碱树脂填装的混床,出水含盐率在1ppm/l以下,电导率小于0.1-0.2μs/cm二氧化硅泄露量在20ppb/l左右,出水ph值显中性。产水水质高且水质稳定,短时间运行条件变化(如进水水质或组分,运行流量等)对混床水质影响不大。间断运行对产水水质影响小,恢复到停运前的活水水质所需时间短。交换终点明显。

五、设备的安装、维护与使用

设备的安装可按所供总图上要求进行。

抛光混床为frp材质设备,因此设备本体不得发生严重碰撞。其操作温度不应大于40℃,设备周围严禁有其它热源烘烤更不能对设备近火施焊,如果设备发至现场用户不立即使用时,应将设备运入室内放置,一般室内温度在5-30℃之间,严禁露天存放。对于不合格的水帽坚决不得使用,水帽材质为abs。按水质要求及时更换树脂。更换树脂再投入运行时,应先冲洗排放一段时间,让新树脂尽可能被冲洗得干净。

 

本产品的加工定制是是,规格是MKW-PGP02,工作压力是0.25~0.45(Mpa),工作温度是0-40(℃),进水浊度是5(mg/L),直径是100-3000(mm),树脂层高度是300-2800(mm),高度是380-3500(mm),出水能力是1-100(m3/h),尺寸是380-3500(cm),设计产水量是1-100(t/h),设备净重是10-3000(kg)

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